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dc.contributor.advisor김연상-
dc.contributor.advisor정병문-
dc.contributor.author김주희-
dc.creator김주희-
dc.date.accessioned2016-08-25T04:08:13Z-
dc.date.available2016-08-25T04:08:13Z-
dc.date.issued2009-
dc.identifier.otherOAK-000000054049-
dc.identifier.urihttps://dspace.ewha.ac.kr/handle/2015.oak/178135-
dc.identifier.urihttp://dcollection.ewha.ac.kr/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000054049-
dc.description.abstractWe suggest a new and economical replica fabrication method of transparent and hard mold for imprinting lithography such as NIL and S-FIL. The process is started on the use of replica hard mold from master using polymer copy as a carrier. This replicated hard mold is useful to avoid essentially the direct contact between a hard master and a patterned polymer on a substrate or the contamination of master using as hard mold in imprinting process. Also, as this replica hard mold has transparent and very hard properties as well as a glass, it has a potential for imprinting lithography such as NIL and S-FIL.;다양한 분야에서 적용되는 나노 구조를 제작할 수 있는 기존의 방법으로 photolithography 를 들 수 있다. 그러나 복잡한 고가의 공정비용이 들기 때문에 이러한 단점을 극복할 수 있는 대안이 필요하다. Imprint lithography 는 비용절감과 공정의 단순화를 위해 적절한 대체 방법으로 많이 연구되어왔다. 그러나 imprint lithography 에서도 고가의 quartz mold 가 필요하며 mold 의 손상과 오염 또한 피할 수 없기 때문에 비용 절감에 한계가 있다. 본 논문에서는 이러한 imprint lithography 에서 쓰이는 고가의 quartz mold 를 대체하기 위해 sol-gel process 와 저압의 imprinting 을 이용한 복제 mold의 개발을 보고하였다. 세 가지 precursor SiO2, TiO2, 와 GLYMO 를 각각 만들어 섞은 후 25시간 동안 합성시켜 SiO2-TiO2 sol-gel solution 준비한다. 준비된 solution 을 glass에 약 300 nm 정도의 두께로 코팅을 한 후 저압의 imprinting 공정을 거쳐 molding 을 한다. 이렇게 복제된 mold 는 200 ℃에서 열처리를 통해 매우 단단한 mold 로 완성된다. 낮은 점성을 나타내는 solution 의 특성으로 인해 master 와 매우 유사한 복제 mold 의 제작이 가능하다. 완성된 mold 는 단단하며 투명한 성질을 나타내기 때문에 imprint lithography 에서뿐만 아니라 UV curable materials 을 사용하는 step and flash imprint lithography 에서도 적용이 가능하다.-
dc.description.tableofcontentsⅠ. Introduction = 1 Ⅱ. Experimental Procedures = 4 Ⅱ.1. Fabrication of polymer copy as a carrier = 5 Ⅱ.1.1. Anti-adhesion ultra-thin PDMS coating = 5 Ⅱ.1.2. Fabrication of the PPT mold - = 7 Ⅱ. 2. Preparation of SiO₂-TiO₂ sol-gel solution = 9 Ⅱ. 3. Replica mold fabrication using SiO₂- TiO₂sol-gel process = 12 Ⅲ. Results and Discussion = 14 Ⅲ. 1. The replicating steps for a highly transparent and hard mold = 14 Ⅲ. 2. Hardness of SiO₂-TiO₂thin film = 20 Ⅲ. 3. SiO₂-TiO₂sol-gel processing = 22 Ⅲ. 4. Function of GLYMO as an anti-cracking agent = 24 Ⅳ. Conclusion = 28 References = 29 국문초록 = 32-
dc.formatapplication/pdf-
dc.format.extent3397474 bytes-
dc.languageeng-
dc.publisher이화여자대학교 대학원-
dc.titleTransparent and Hard Replica Mold for Imprint Lithography-
dc.typeMaster's Thesis-
dc.title.translatedImprint Lithography 에서 사용되는 고가의 mold 를 대체하기 위한 저가의 복제 mold 제작을 위한 연구-
dc.format.pageⅸ, 37 p.-
dc.identifier.thesisdegreeMaster-
dc.identifier.major대학원 화학·나노과학과-
dc.date.awarded2009. 8-
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일반대학원 > 화학·나노과학과 > Theses_Master
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