View : 47 Download: 0

Microfabrication of Planar Multielectrode Array using Laser-patterned ITO and SU-8

Title
Microfabrication of Planar Multielectrode Array using Laser-patterned ITO and SU-8
Authors
정희수
Issue Date
2019
Department/Major
대학원 전자전기공학과
Publisher
이화여자대학교 대학원
Degree
Master
Advisors
전상범
Abstract
Electrophysiological features of neural networks have been studied for a long time to reveal brain functions. Especially, the use of microelectrode arrays enabled the recording from individual neurons. This technique has been helpful in understanding the basic mechanisms of the brain. Microelectrode arrays (MEAs) are devices containing multiple microelectrodes capable of sensing and modulating neural signals. In this study, we have fabricated a planar MEA using simple fabrication processes and verified its performance. ITO (indium tin oxide) patterning was performed in a short time through a laser process. Insulation was simply performed through a SU-8 photolithography process. Electrochemical measurements, cell culture and neural signal recording were performed to verify the performance of the fabricated MEA. The performance of the insulating film was verified by impedance measurement and cell culture, and the performance of the electrode was verified by recording the neural signal. The proposed MEA with laser-patterned ITO and SU-8 is more cost effective than the existing MEA. This study is also expected to be a reference for the study of SU-8 photoresist, the study of electrode performance, and the fabrication of MEAs by various process methods.;신경 네트워크의 전기생리학적 특징은 뇌의 기능을 밝히기 위해 오랫동안 연구되어 왔다. 특히, 미세전극어레이의 사용은 각각의 뉴런으로부터의 기록을 가능하게 했다. 이 기술은 뇌의 기본 메커니즘을 이해하는데 도움이 되었다. 미세전극어레이는 신경 신호를 감지하고 제어할 수 있는 다중 미세전극을 포함하는 장치이다. 본 연구에서는 간단한 공정으로 평면형 미세전극어레이를 제작하고 그 성능을 검증했다. ITO (인듐 주석 산화물)의 패터닝은 레이저 공정을 통해 단시간에 수행됐다. 절연은 SU-8 포토리소그래피 공정을 통해 간단하게 수행됐다. 제작된 미세전극어레이의 성능을 검증하기 위해 전기화학적 측정과 세포 배양 및 신경 신호 기록을 해보았다. 임피던스 측정과 세포 배양을 통해 절연막의 성능을 검증하였으며, 신경 신호 기록을 통해 전극의 성능을 검증하였다. 본 연구에서 우리는 기존의 미세전극어레이보다 비용면에서 효율적인 간단한 미세전극어레이 제작하는 공정을 제안했다. 이 연구가 SU-8 포토레지스트 관련 연구, 전극의 성능 관련 연구와 다양한 공정 방법에 의한 미세전극어레이 제작에 참고 자료가 될 것으로 기대한다.
Fulltext
Show the fulltext
Appears in Collections:
일반대학원 > 전자전기공학과 > Theses_Master
Files in This Item:
There are no files associated with this item.
Export
RIS (EndNote)
XLS (Excel)
XML


qrcode

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

BROWSE